刻鍍一體機
刻蝕機
鍍膜機
設備名稱：刻鍍一體機
可加工材料：各種金屬、合金、非金屬、氧化物、氮化物、陶瓷、紅外和超導，磁學，LED等前沿領域。
核心參數
主源/輔源類型：考夫曼離子源
樣品臺：3～8英寸，面內旋轉
靶臺：3～4靶
高真空系統：前級泵＋分子泵
工藝氣路：1-3路
均勻性：≤±5%
全自動＋半自動控制；支持單工藝和多工藝組、操作記錄、運行記錄、故障診斷、報警等功能。
可選配：0ES終點檢測/膜厚儀。
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